Physical Vapor Deposition – PVD

Physical Vapor Deposition – PVD

دستگاه لایه‌نشانی فیزیکی از فاز بخار (PVD)

دستگاه لایه‌نشانی فیزیکی از فاز بخار (Physical Vapor Deposition – PVD) یکی از تجهیزات پیشرفته پژوهشکده علوم و فناوری نانو است که به‌منظور ایجاد لایه‌های نازک و پوشش‌های عملکردی با کیفیت بالا مورد استفاده قرار می‌گیرد. این دستگاه با بهره‌گیری از فرآیندهای فیزیکی در محیط خلأ، امکان لایه‌نشانی یکنواخت و کنترل‌شده مواد مختلف را بر روی زیرلایه‌های گوناگون فراهم می‌کند.

دستگاه PVD کاربرد گسترده‌ای در پژوهش‌های مرتبط با نانومواد، پوشش‌های مقاوم، لایه‌های اپتیکی، الکترونیکی و کاربردهای سطحی دارد. قابلیت کنترل دقیق پارامترهای فرآیندی، تکرارپذیری مناسب و سازگاری با پروژه‌های تحقیقاتی و توسعه‌ای، این تجهیز را به یکی از ابزارهای کلیدی برای پژوهشگران، دانشجویان تحصیلات تکمیلی و اعضای هیئت علمی پژوهشکده تبدیل کرده است.