Chemical Vapor Deposition – CVD

Chemical Vapor Deposition – CVD

دستگاه رسوب‌دهی شیمیایی از فاز بخار (CVD)

دستگاه رسوب‌دهی شیمیایی از فاز بخار (Chemical Vapor Deposition – CVD) یکی از تجهیزات تخصصی پژوهشکده علوم و فناوری نانو است که به‌منظور سنتز و لایه‌نشانی انواع مواد نانوساختار مورد استفاده قرار می‌گیرد. این دستگاه امکان رشد و پوشش‌دهی لایه‌های نازک با کنترل دقیق پارامترهایی نظیر دما، زمان و شرایط فرآیندی را فراهم می‌کند.

دستگاه CVD نقش مهمی در تولید نانومواد، لایه‌های نازک، پوشش‌های عملکردی و ساخت ساختارهای پیشرفته در تحقیقات نانوفناوری ایفا می‌کند. دقت بالا، تکرارپذیری مناسب فرآیند و قابلیت استفاده در پروژه‌های تحقیقاتی و توسعه‌ای، این تجهیز را به یکی از ابزارهای کلیدی پژوهشگران، دانشجویان تحصیلات تکمیلی و اعضای هیئت علمی پژوهشکده تبدیل کرده است.